英特尔EUV光刻工艺恐要被台积电甩在身后，两年内无法翻身！

英特尔的10nm工艺延期到明年底，而台积电、三星的7nm已经或者即将量产。不仅如此，更重要的是英特尔使用EUV光刻工艺也面临不确定性，有分析称，2021年底英特尔都不太可能用上EUV工艺，而台积电、三星明年的7nm改进版工艺就会用上EUV。

现在，EUV光刻机虽然已经量产出货，但在产能还达不到要求，所以台积电首先推出了不使用EUV光刻工艺的第一代7nm，预计明年的7nm+增强版工艺上才会使用EUV光刻工艺。

在使用EUV光刻机方面，三星是最激进的一家，直接在7nm工艺上首发EUV工艺，但这也导致三星的7nm工艺难度高，进展比台积电更慢，台积电今年中就开始量产7nm芯片，三星的7nm EUV工艺预计要到明年初才能正式量产，而且客户数量远低于台积电的50多家。GF公司原本也在第二代7nm工艺上使用EUV工艺，不过他们现在退出了7nm工艺的研发、生产，EUV光刻机也用不上了。

英特尔是最早投入研发EUV工艺的半导体公司之一，但是现在英特尔的不确定性也是最大的，2014年，英特尔还表态他们并不依赖EUV工艺，即便没有EUV光刻机也懂得如何制造7nm工艺的芯片。

关于EUV工艺，英特尔官方还未正式表态，EETiems上周在报道中援引伯恩斯坦分析师Mark Li的消息称英特尔还在等待EUV技术更加成熟，在2021年底之前不会将EUV工艺纳入到其工艺技术中去。

如果实际情况确实如上述分析的那样，则意味着英特尔至少要在三年后才能用上EUV工艺，即便2021年末真的推出了EUV工艺，其在这个技术进度上落后台积电、三星公司两年时间，不过，按照英特尔的说法，其策略和决定更成熟，因为在新工艺技术问题没解决之前上EUV工艺可能会引入额外的风险。

而现在，英特尔最大的麻烦不是EUV光刻工艺，他们首先要解决的是10nm工艺的量产，将良率提高到可以接受的程度，在2019年底正式推出基于10nm工艺的处理器，而在2020年才有可能大规模生产出移动、桌面、服务器版的10nm芯片。

英特尔的7nm工艺尚在研发中，透露的消息非常少，此前只是表态称7nm工艺上吸取了10nm工艺的教训，不搞太浮夸的指标以便降低量产难度。